COMSOL Semiconductor Module 6.2
DESCRIPCIÓN
Semiconductor Module permite el análisis detallado del funcionamiento de dispositivos semiconductores al nivel físico fundamental.
CARACTERÍSTICAS
El módulo está basado en las ecuaciones de advección-difusión con modelos de transporte isotérmico y no isotérmico. Se proporcionan dos métodos numéricos: el método del volumen finito con "upwinding" de Scharfetter-Gummel y el método de elementos finitos estabilizado por mínimos cuadrados de Galerkin. El módulo proporciona una interfaz fácil de usar para analizar y diseñar dispositivos semiconductores, simplificando en gran medida las tareas de simulación del dispositivo en la plataforma de COMSOL.
Los modelos de materiales de semiconducción y aislamiento además de las condiciones de contorno para contactos óhmicos, contactos Schottky, y puertas se proporcionan como características dedicadas dentro del Semiconductor Module. El módulo incluye funcionalidad mejorada para el modelado electrostático. Las simulaciones a nivel de sistema y de dispositivos mixtos es posible a través de una interfaz para circuitos eléctricos con capacidades de importación SPICE.
El módulo Semiconductor es útil para simular una gran variedad de dispositivos prácticos. La librería de modelos integrada contiene una suite de modelos diseñados para proporcionar instrucciones sencillas y demostrar cómo utilizar la interfaz para simular sus propios dispositivos. Semiconductor Module es particularmente adecuado para simular transistores incluyendo transistores bipolares, de efecto de campo metal-semiconductor (MESFET), efecto de campo metal-oxido-semiconductor (MOSFET), diodos Schottky, tiristores y uniones P-N.
SECTORES
Algunas de las principales aplicaciones del módulo pueden ser:
- Transistores bipolares
- Transistores de efecto de campo metal-semiconductor (MESFET)
- Transistores de efecto de campo metal-óxido-semiconductor (MOSFET)
- Diodos Schottky
- Tiristores
- Uniones P-N
VERSIONES
6.2
NOVEDADES
Botones de vista previa para visualizar perfiles de dopaje
Una definición precisa del perfil de dopaje es primordial en el modelado de semiconductores. Hay dos nuevos botones de vista previa dentro de las funciones Analytic Doping Model y Geometric Doping Model que se pueden usar para visualizar perfiles de dopaje antes de resolver las ecuaciones del modelo. Se puede acceder a los dos botones de vista previa, Plot Doping Profile for Selected y Plot Net Doping Profile for All, tanto en la ventana Setting como en el menú contextual. El botón Plot Doping Profile for Selected se puede utilizar para visualizar la concentración de dopaje introducida por la función de dopaje seleccionada, mientras que el botón Plot Net Doping for All visualiza el valor absoluto de la concentración neta de dopaje. Para los gráficos del perfil de dopaje neto, la región de tipo p se muestra en rojo y la región de tipo n se muestra en azul, lo que facilita distinguir entre las dos y garantizar que la definición del modelo sea correcta antes de resolver las ecuaciones.
Ejemplo del gráfico de vista previa creado después de usar el botón Plot Doping Profile for Selected.
Ejemplo del gráfico de vista previa creado después de usar el botón Plot Net Doping Profile for All.
Mejoras de rendimiento para formulaciones de elementos finitos
Se han realizado mejoras significativas en la estabilidad, precisión y eficiencia de las formulaciones de elementos finitos, incluidas las formulaciones logarítmicas, de nivel cuasi-Fermi y de gradiente de densidad. Estas mejoras abarcan varios aspectos, como mejoras en las ecuaciones de forma débil, configuraciones de restricciones y configuraciones predeterminadas del solucionador. Como resultado, la mayoría de los modelos de la biblioteca de aplicaciones ahora se pueden resolver de manera más eficiente utilizando formulaciones de elementos finitos. Por ejemplo, anteriormente, resolver un modelo de transistor bipolar 3D con la formulación de volumen finito normalmente tomaba un día completo, mientras que con la formulación mejorada de registros de elementos finitos, este modelo ahora se puede resolver en una PC estándar en 15 minutos.
El uso de las mallas Free Tetrahedral y Boundary Layer dentro del nuevo modelo tutorial 3D Analysis of a Bipolar Transistor conduce a una reducción significativa en los grados de libertad.
Flujo de trabajo de modelado optoelectrónico simplificado
Se han realizado mejoras en la interfaz de usuario para el flujo de trabajo de modelado optoelectrónico y se ha simplificado el proceso para definir la física óptica con la interfaz Semiconductor o mediante otras interfaces ópticas. Para la funcionalidad Semiconductor Electromagnetic Waves Coupling, ahora aparecerá un mensaje de información si se proporciona física óptica y se ha añadido un detalle esquemático del acoplamiento a la sección Equation en la ventana de configuración, Settings.
Dominio de elementos infinitos para modelar la física cuántica
Ahora se puede añadir una funcionalidad Infinite Element Domain a los modelos que incluyen la interfaz Schrödinger Equation. Puede verse esta actualización en el nuevo modelo tutorial Solving the Hydrogen Atom.
Modelo de generación de ionización de impacto extendido
El modelo Okuto-Crowell Model en la funcionalidad Impact Ionization Generatio se actualizó a una expresión más general que puede explicar diferentes dependencias de un campo eléctrico utilizando dos parámetros de ionización adicionales.
La configuración del modelo Okuto-Crowell para el desglose de un modelo tutorial MOSFET.
Los nuevos gráficos predeterminados incluyen la concentración neta de dopantes
Se ha añadido un grupo de gráficos de concentración neta de dopante predeterminado a la interfaz Semiconductor y mostrará automáticamente el valor absoluto de la concentración neta de dopante.
Nuevos modelos tutoriales
Electrolyte-Gated Organic Field-Effect Transistor |
Solving the Hydrogen Atom |
Bipolar Transistor |
3D Analysis of a Bipolar Transistor |
6
NOVEDADES
La versión 6.0 incluye funcionalidad para la transición entre los niveles de energía de trampa discretos, la capacidad para añadir resistencia de contacto a los contactos de metal, y la nueva funcionalidad de fuente de calor heterounión para el modelado térmico.
Transición entre niveles discretos
Una nueva funcionalidad de Transición entre niveles discretos está disponible como atributo de las tres funciones de recombinación asistida por trampa (dominio, contorno y heterointerfaz) cuando se selecciona la opción de trampa explícita y se crea más de un nivel de energía de trampa discreta. Esta función permite especificar la vida útil de la desintegración entre los niveles de trampa y simular la transición entre los niveles cuantificados de pozos cuánticos y/o puntos cuánticos tratándolos como niveles de trampa. Puede verse esta nueva función en el modelo tutorial A Solar Cell with InAs Quantum Dots Embedded in AlGaAs/GaAs Quantum Wells.
Un modelo de célula solar que utiliza la nueva funcionalidad de transición para modelar la transición entre el pozo cuántico que lo comprende y los puntos cuánticos.
Resistencia de contacto
Se ha añadido una nueva opción de Resistencia de contacto a la condición de contorno de Contacto metálico para los tipos de contacto óhmico y Schottky y los cinco modos de conducción: voltaje, corriente, potencia, corriente del circuito y voltaje del circuito. Esta funcionalidad se puede habilitar seleccionando la casilla de verificación Resistencia de contacto (deshabilitada por defecto) en la ventana de Ajustes. Esto permite un modelado más realista y conveniente de contactos metálicos. El modelo tutorial A Cross-Bridge Kelvin Resistor for the Extraction of Specific Contact Resistivity muestra esta nueva opción.
Potencial eléctrico (color) y densidad de corriente (flechas y líneas de corriente) de una resistencia en puente de Kelvin para medir la resistencia de contacto.
Modelo de movilidad unificado de Klaassen (LIC)
La interfaz de semiconductores ahora incluye una funcionalidad de Modelo de movilidad unificada de Klaassen (a veces denominada modelo de movilidad unificada de Philips) disponible a través del nodo de Modelo de material de semiconductores. En este modelo, la movilidad total del portador viene dada por la combinación de los efectos de dispersión reticular (L), donante (I), aceptor (I) y portador-portador (C). Este modelo de movilidad también incluye el cribado de impurezas por portadores de carga y la agrupación de impurezas a altos niveles de dopaje. Los modelos tutoriales Trench-Gate IGBT 3D y Trench-Gate IGBT 2D muestran esta nueva funcionalidad.
Un modelo de un IGBT que incorpora la funcionalidad del modelo de movilidad unificado de Klaassen.
Fuente de calor de heterounión
La contribución de calentamiento de Joule a las fuentes de calor límite en las heterouniones se ha incluido en las variables integradas de la interfaz de Semiconductores. Esto facilita la realización de análisis térmicos acoplados de heteroestructuras.
Nuevo solucionador predeterminado
Se ha añadido una nueva secuencia de resolvedor, sugerida por la física, a la interfaz Semiconductor para agilizar la configuración del estudio para modelos con movilidad dependiente del campo y/o generación de ionización por impacto. Estos modelos de la biblioteca de aplicaciones existentes ahora son más eficientes con la nueva secuencia del solucionador: mosfet_with_mobility_models, lombardi_surface_mobility, caughey_thomas_mobility, insb_pfet_density_gradient.
Reutilización de la solución para problemas de valores propios paramétricos
Ahora es posible seleccionar los vectores iniciales al resolver problemas de valores propios paramétricos. Esta funcionalidad puede ahorrar tiempo de cálculo para problemas de valores propios con soluciones que varían suavemente con un cambio en el parámetro. Se pueden encontrar ejemplos en modelos que utilizan la interfaz Schrödinger-Poisson. Con el Método de búsqueda de valor propio establecido en Manual, a menudo puede reducirse el número de iteraciones en al menos un 50%.
Funcionalidades de captura
Se ha añadido una nueva opción para especificar tasas adicionales de captura de electrones y huecos al atributo Nivel de energía discreta para las funcionalidades de recombinación asistida por trampa (dominio, contorno y heterointerfaz), cuando se selecciona la opción de trampa explícita. La funcionalidad de Niveles de energía continuos se ha mejorado al expandir el rango de los niveles de energía de la trampa fuera de la banda prohibida y permitiendo que la probabilidad de captura dependa del nivel de energía de la trampa. La función de captura para la formulación de gradiente de densidad se ha mejorado con la nueva opción de resolver la ocupación de la trampa (a diferencia del nivel de la trampa Fermi).
Modelos de movilidad
El Modelo de movilidad Caughey-Thomas se ha mejorado con varias opciones nuevas para la formulación de las fuerzas impulsoras, lo que añade versatilidad para los usuarios interesados en diferentes tipos de fuerzas impulsoras.
Contactos de metal
Se ha incluido una nueva variable global interna para la densidad de corriente de terminal promedio para la condición de contorno de Contacto metálico, lo que hace que sea conveniente obtener valores de salida independientes de la escala para fines de comparación.
Nuevos modelos tutoriales
Surface-Trap-Induced Hysteresis in an InAs Nanowire FET, a Density-Gradient Analysis |
A Cross-Bridge Kelvin Resistor Model for the Extraction of Specific Contact Resistivity |
A Solar Cell with InAs Quantum Dots Embedded in AlGaAs/GaAs Quantum Wells |
Trench-Gate IGBT 2D |
Trench-Gate IGBT 3D |
MOSCAP 1D |
MOSCAP 1D Small Signal |
Interface Trapping Effects of a MOSCAP |
Thermal Analysis of a Bipolar Transistor |
5.6
NOVEDADES
Función de onda multicomponente
La interfaz Ecuación de Schrodinger se ha ampliado para soportar funciones de onda multicomponente y masas efectivas tensoriales. Con esta nueva capacidad existe un flujo de trabajo sencillo para modelar sistemas multibanda y partículas con spin. Puede verse la demostración de esta funcionalidad en los ejemplos de aplicación "k·p Method for Strained Wurtzite GaN Band Structure" y "A Silicon Quantum Dot in a Uniform Magnetic Field".
Estructura de bandas de un cristal GaN de Wurtzita tensionado
Fuerza de Lorentz
Esta nueva característica añade la contribución de la fuerza de Lorentz al momento cinético del potencial vector magnético, útil para sistemas bajo la influencia de campos magnéticos. Puede verse esta funcionalidad en el ejemplo de aplicación "A Silicon Quantum Dot in a Uniform Magnetic Field".
Densidad de probabilidad y densidad de momento cinético de un punto cuántico de silicio en un campo magnético.
Marco giratorio
La nueva característica Marco giratorio añade una contribución al Hamiltoniano correspondiente a un marco giratorio, facilitando el análisis de sistemas enn marco de referencia giratorio. Puede verse esta funcionalidad en el ejemplo de aplicación "Vortex Lattice Formation in a Rotating Bose-Einstein Condensate".
Amplio soporte para análisis de frecuencias propias
El estudio Frecuencias propias ahora está soportado en la mayoría de las interfaces del Módulo AC/DC: Corrientes eléctricas, Corrientes eléctricas en cáscaras, Corrientes eléctricas en cáscaras de capas, Circuito eléctrico, Electrostática y Campos magnéticos. Además de soportar el análisis modal de la cavidad de onda completa en la interfaz Campos magnéticos, es posible correr análisis de frecuencas propias con modelos que involucren circuitos eléctrios. El soporte de frecuencias propias se ha desarrollado principalmente en el módulo AC/DC, pero otros módulos que proporcionan una de las interfaces físicas afectadas también se beneficiarán de él.
Pico de resonancia de un circutio RLC simple. Se analizan las frecuencias propias y el factor Q y se comparan con los valores determinados analíticamente.
Nuevas y mejoradas funcionalidades para la interfaz de Cicuito Eléctrico
Para estudios Dependientes del tiempo, la interfaz Circuito eléctrico ha sido equipada con una funcionalidad Interruptor "basada en eventos". Esto permite modelar conmutación on-off "instantánea" de ciertas conexiones en el circuito. El interruptor puede ser controlado por corriente, controlado por tensión, o controlado por expresiones booleanas definidas por el usuario.
Además, se ha añadido Definiciones de subcircuito parametrizado. Junto con Instancia de subcircuito, permiten crear sus propios bloques constructivos conteniendo circuitos más pequeños, y utilizar múltiples variantes parametrizados de ellos en su circuito más grande. Finalmente, la maquinaria, estado, evento y resolvedor ha sido mejorada, especialmente en el modelado transitorio de dispositivos no lineales (semiconductores), lo que lo hace más robusto.
Las mejoras de circuitos se han desarrollado principalmente en el módulo AC/DC pero otros módulos que proporcionan acceso a la interfaz Circuito eléctrico también se beneficiarán.
Formulación deriva-difusión
La formulación deriva-difusión se ha ampliadop ara materiales graduales para incluir el efecto de la variación continua de la densidad efectiva de estados. (La formulación de nivel quasi-Fermi ya lo incluía.)
Nuevos modelos tutoriales
k·p Method for Strained Wurtzite GaN Band Structure |
A Silicon Quantum Dot in a Uniform Magnetic Field |
Vortex Lattice Formation in a Rotating Bose-Einstein Condensate |
|
5.5
NOVEDADES
La nueva versión 5.5 incluye una nueva formulación de gradiente de densidad, una nueva funcionalidad de recombinación de heterointerfaces asistida por trampa y cuatro nuevos modelos.
Formulación de gradiente de densidad
Una nueva opción de discretización basada en la teoría del gradiente de densidad se ha introducido para incluir el efecto del confinamiento cuántico en la formulación convencional de difusión deriva. Esto proporciona una alternativa eficiente a otros métodos de mecánica cuántica más sofisticados, que son computacionalmente caros.
Funcionalidad de recombinación de heterointerfaces asistida por trampa
La nueva condición de contorno Trap-Assisted Heterointerface Recombination se ha añadido para simular el efecto de trampas de interfaz en las heterouniones. Es sencillo configurar trampas de nivel de energía discretas y/o contínuas para tener en cuenta sus capturas de portadoras y cargar efectos en las heterointerfaces.
Mejoras adicionales
- Opción de corriente de unión definida por el usuario
- Una nueva opción para la condición de contorno de heterounión permite al usuario especificar cualquier densidad de corriente arbitraria en la unión
- Formulación de trampa de nivel cuasi-Fermi
- Una nueva formulación para tampas explícitas es introducida para utilizar el nivel cuasi-Fermi de trampa como la variable dependiente a resolver
- Propiedades de material dependientes del dopaje
- Ahora están disponibles la concentración de aceptadores y la concentración de donantes bajo la rama Transport de la lista de Entradas del Módulo para facilitar la construcción de propiedades de material dependientes del dopaje
- Acoplamiento de Mecánica de Sólidos
- La variable para la derivada temporal del campo de desplazamiento eléctrico es actualizada para permitir deformación de malla para acoplar con mecánica de sólidos
- Ecuación de Schrödinger-Poisson
- El rango de pesos para el acoplamiento multifísico Schrödinger-Posisson se extiende desde 20kT a 40 kT para cubrir casos con rangos de temperatura más altos
- Nuevas funciones incluidas
- Nuevas funciones Fermi-Dirac log_FD_half_inv_an y log_FD_half_an están disponibles y aceptan un rango completo de argumentos de entrada
- Mejoras de precisión para:
- formulación del Modelo de Mobilidad Cughey-Thomas
- Ajustes de resolvedor por defecto para estudios dependientes del tiempo
- Escalado por defecto para formulaciones de nivel cuasi-Fermi
- Errores solucionados:
- Un error en el término débil dependiente del tiempo para la formulación de nivel cuasi-Fermi (desde COMSOL Multiphysics® versión 5.4 update 3)
- Un efecto desaparecido de cargas de trampa de superficie explícitas en contactos Schottky
- La fórmula de ensidad de corriente de contorno entre dos características del modelo de material semiconductor adyacente, corregido para la discretización de volumen finito
- El filtro de selección para la condición de contorno Zero Charge no superponerse a la condición de contorno Axial Symmetry
5.4
NOVEDADES
Ecuación de Schrödinger-Poisson
Se ha introducido una nueva interfaz multifísica Schrödinger-Poisson Equation para crear un acoplamiento bidireccional entre una interfaz física Electrostatics y una interfaz física Schrödinger Equation para modelar portadores de carga en sistemas confinados cuánticamente. El potencial eléctrico de la interfaz Electrostatics contribuye al término de energía potencial en la interfaz de la Ecuación de Schrödinger. Una suma ponderada estadísticamente de las densidades de probabilidad desde los estados propios tomados de la interfaz de la Ecuación de Schrödinger contribuye a la densidad de carga espacial en la interfaz Electrostática. Están soportadas todas las dimensiones espaciales (1D, 1D axisimétrico, 2D, 2D axisimétrico y 3D).
Un tipo de estudio dedicado Schrödinger-Poisson está disponible para la generación automática de iteracoines auto-consistentes en la secuencia del resolvedor. Un nuevo modelo comparativo de referencia, Self-Consistent Schrödinger-Poisson Results for a GaAs Nanowire, demuestra el uso de esta nueva funcionalidad.
Recombinación de superficie asistida por trampas
Una nueva condicion de contorno, Trap-Assisted Surface Recombination, reemplaza a la casilla Surface traps en las funcionalidades Insulation, Thin Insulator Gate, y Insulator Interface. A diferencia de la antigua casilla, que permitía únicamente una opción de trampas explícitas, la nueva condición de contorno tiene ambas opciones de recombinación SRH y trampas explícitas como su contrapartida de dominio (la condición de domino Trap-Assisted Recombination). Además, la nueva condición de contorno se extiende para incluir Schottky contacts. Se ha solucionado un problema en la formulación FEM (la carga de superficie no tiene efecto).
Modelo de túnel WKB
Ahora está disponible una nueva funcionalidad de tunelado basada en la aproximación WKB para tener en cuenta densidades de corriente adicionales para el tranporte de portadoras a través de heterouniones o barreras de Schottky via tunelado cuántico. Un nuevo modelo comparativo de referencia, Heterojunction Tunneling, demuestra el uso de esta nueva funcionalidad.
Heterouniones (Opción de emisión termoiónica) y contactos Schottky
Ahora está disponible una nueva sección Extra Current Contribution para añadir una contribución definida por el usuario o para utilizar el nuevo modelo WKB Tunneling Model mencionado anteriormente.
Heterouniones
Para la opción Thermoionic Emission, un único valor de A* (coeficiente de Richardson) se calcula seleccionando la menor masa efectiva entre los dos lados para las densidades de corriente de emisión termoiónica de ambos lados, de forma que la densidad de corriente total consistentemente se cancela a cero en el equilibrio.
Túnel aislador
La variable para el campo eléctrico perpendicular en el aislador (semi.E_ins) ahora está disponible para el tipo de túnel definido por el usuario, haciéndola más conveniente para definir la densidad de corriente del tunelado.
Mejoras de estabilidad
El modelo de mobilidad Fletcher y los modelos SRH, Auger y recombinación Directa han sido mejorados para incorporar valores de concentración de portadores no negativos en la formulación.
Nombrado de terminal al duplicar
Cuando se duplica o pegan contactos de metal, puertas aisladas o terminales electrostáticos, la entidad duplicada ahora tiene un nuevo nombre de terminal único. Antes de la versión 5.4 la entidad duplicada tenía el mismo nombre de terminal que la entidad original.
Corriente de terminal de pequeña señal
La variable de la corriente de terminal para el análisis de pequeña señal ahora incluye la contribución desde la corriente de desplazamiento. Esto hace más conveniente calcular los parámetros concentrados como la capacidad diferencial de un contacto Schottky con bias.
Niveles de trampas continuas de pequeña señal
El análisis de pequeña señal ahora puede realizarse en sistemas con niveles de trampas continuos.
Paso de estudio de equilibrio de semiconductor
La formulación ha mejorado los contactos de metal guiados por corriente.
Modelo de célula solar de Si
El modelo actualizado si_solar_cell_ld utiliza irradiancia solar AM 1.5 y el espectro de absorción del silicio para la tasa de fotogeneración.
Modelo iD de heterounión
El modelo actualizado muestra 4 formas diferentes de alcanzar una mejor convergencia: Study 1, escalado manual; Study 2, solución heredada de Study 1 (mismo que antes); Study 3, paso Semiconductor Equilibrium como condición inicial; y Study 4, rampa tanto de dopado como de corriente termoiónica desde 1e-8 (la rampa de dopado antes estaba apagada). Se han eliminado los ajustes obsoletos del resolvedor (amortiguación inicial, número de iteración); comentarios, la descripción del modelo y la documentación del modelo se han actualizado; y las etiquetas han cambiado de nombre.
Modelo Gan_Double_Heterstructure_LED
El aumento gradual y el ajuste de los valores iniciales y los ajustes del resolvedor han sido reemplazados por el paso de estudio de Semiconductor Equilibrium. Se han eliminado los ajustes del solucionador para el estudio del bias actual. La descripción del modelo, los comentarios de configuración y la documentación del modelo se han actualizado.
Modelo de EEPROM
El estudio 1 se ha cambiado con el resolvedor por defecto y el escalado manual para su mejor convergencia (el modelo había estado utilizando la configuración de Newton altamente no lineal y luego apenas convergía).
5.3a
NOVEDADES
La versión 5.3a trae un nuevo estudio para una opción de discretización a nivel cuasi Fermi, terminales alimentados en potencia, así como tutoriales nuevos y actualizados.
Estudio de Semiconductor equilibrium
Se ha introducido un nuevo paso de estudio llamado Semiconductor Equilibrium para la interfaz física Semiconductor. Se puede utilizar este nuevo estudio para sistemas que se sabe que están en equilibrio así como para generar condiciones iniciales para sistemas no en equilibrio.
Ventana del Asistente de modelo mostrando el nuevo paso de estudio Semiconductor Equilibrium.
Formulación de nivel Cuasi-Fermi
Se ha añadido un nuevo esquema de discretización utilizando los niveles de cuasi-Fermi como variables dependientes para los portadores de carga. La formulación de nivel cuasi-Fermi proporciona una opción alternativa para hacer frente el sistema de ecuaciones a menudo altamente no lineal cuando se modelan dispositivos semiconductores, por ejemplo, a temperaturas muy bajas.
Terminal alimentado en potencia
Se ha añadido una opción a la condición de contorno de Contacto metálico para especificar la potencia del terminal. Esto es además de los terminales alimentados en tensión y en corriente y conectando a circuitos en dos formas diferentes
Funcionalidad Trapping
La funcionalidad de la función Trapping se ha ampliado de forma que los usuarios puedan entrar la ocupación de trampas inicial y el factor de degeneración individualmente para cada subnodo de nivel de energía discreta o continua. La discretización de energía, el rango de energía y el número de puntos de malla a lo largo del eje de energía también pueden adaptarse individualmente para cada subnodo de nivel de energía continua. La funcionalidad ampliada permite mayor flexibilidad en el estudio de sistemas con propiedades de trampas complejas, en particular su dinámica.
PML para la interfaz de la Ecuación de Schrödinger
Además de la condición de Contorno abierto para ondas salientes, la funcionalidad de Capas perfectamente adaptadas (PML) se añaden a la interfaz de la Ecuación de Schrödinger para absorber ondas salientes para estudios estacionarios. Esto ayuda al estudio de varios fenómenos de dispersión.
Nuevo modelo tutorial: Gross-Pitaevskii Equation for Bose-Einstein Condensation
Este tutorial resuelve la ecuación Gross-Pitaevskii para el estado tierra de un condensador Bose-Einstein en una trampa armónica, utilizando la interfaz física de la Ecuación de Schrödinger en el módulo Semiconductor Module. La ecuación es esencialmente una ecuación de Schrödinger de partícula única no lineal, con una contribución de energía potencial proporcional a la densidad de partícula local. El estudio de valores propios no es adecuada para resolver este tipo de problema de valores propios no lineales. En su lugar, se utiliza un estudio estacionario con una ecuación global forzando la normalización de la función de onda para resolver la solución de estado-tierra. El resultado para un gran número de partículas se ajusta bien con la aproximación Thomas-Fermi esperada.
Nuevo modelo tutorial: MOSCAP 1D Small Signal
La estructura metal-silicio-oxido (MOS) es el bloque de construcción fundamental para muchos dispositivos planos de silicio. Sus medidas de capacidad proporcionan mucho conocimiento sobre los principios de funcionamiento de estos dispositivos. Este tutorial construye un modelo 1D sencillo de un capacitor MOS (MOSCAP). Se calculan las curvas C-V tanto de baja como de alta frecuencia, utilizando el enfoque de análisis de pequeña señal. El modelo emplea la formulación de nivel cuasi-Fermi y el paso de estudio Semiconductor Equilibrium, ambos nuevos en COMSOL Multiphysics® versión 5.3a.
Curvas C-V para los casos de baja y alta frecuencia.
Mejoras y errores solucionados
- Formulación de volumen finito mejorada para ionización incompleta, afinidad de electrón variable espacialmente y banda gap y consistencia con la condición de equilibrio térmico
- Configuración automática del valor de restricción para el potencial eléctrico en un Contacto metálico con la altura de la barrera Schottky definida por el usuario
- Comportamiento del modelo de movilidad de campo alto mejorada a bajas corrientes
- Consistencia mejoradas para el escalado de parámetro de continuación entre todos los tipos de perfil de dopado
- Fijada la formulación para estrechamiento de la banda-gap (FVM y FEM), banda gap dependiente de posición (FVM), y difusión de portadora debido al gradiente de temperatura (FVM)
- Definiciones de variables de Fermi-Dirac corregidas para la formulación logarítmica de elementos finitos
- Formulación solucionada para el caso de altura de barrera Schottky definida por el usuario en la condición de contorno de Contacto metálico.
5.3
NOVEDADES
La versión 5.3 de COMSOL incluye en su módulo de Semiconductores una nueva interfaz física de Ecuación de Schrödinger para problemas de mecánica cuántica así como varios nuevos modelos.
Nueva interfaz física: Ecuación de Schrödinger
La interfaz recientemente añadida de Ecuación de Schrödinger resuelve la ecuación de una partícula de Schrödinger para problemas de mecánica cuántica en 1D, 2D y 3D, así como para las funciones de honda de electrones y huecos en sistemas confinados cuánticamente bajo la aproximación de la función envolvente. Se han implementado condiciones de contorno y tipos de estudios apropiados para configurar modelos fácilmente y calcular parámetros relevantes en varias situaciones, como las energías propias de estados límite, la tasa de decaimiento de los estados casilimitados, los coeficientes de transmisión y reflexión, la condición de tunelamiento resonante, y el gap de banda efectiva de una estructura superred. Se han incluido dos nuevos ejemplos en el módulo de Semiconductores que ayudan a ilustrar el uso de estas funcionalidades integradas.
Otras mejoras de rendimiento
Contactos metal controlados por corriente
Una nueva formulación logra una convergencia más fácil para modelos con condiciones de contorno de contacto metal controlado por corriente
Más opciones para especificación de densidad de trampas
para cada tipo de especie de trampa, además de la suma de densidades de trampas, ahora está disponible cada contribución individual como una opción en el correspondiente menú desplegable. Además de las trampas con tipos de especies especificados, ahora las trampas con energía neutral especificada pueden ser definidas utilizando las mismas herramientas de perfil de concentración general para dopajes y trampas.
Modelo de ionización de impacto definida por el usuario
Ahora se dispone de un modelo definido por el usuario para la funcionalidad de ionización de impacto.
Nueva aplicación: Herramienta de banda prohibida de superred
La herramienta de banda prohibida de superred ayuda al diseño de estructuras periódicas hechas con dos materiales semiconductore alternativos (superredes). La herramienta utiliza la ecuación de Schrödinger de masa efectiva para estimar los niveles de energía del estado de tierra de electrón y hueco en una estructura de superred dada. Los ingenieros de dispositivos pueden utilizar la herramienta para calcular rápidamente la banda prohibida efectiva para una estructura periódica dada e iterar los parámetros de diseño haste que alcancen un valor de banda prohibida deseada.
Para utilizar la app, entrar los parámetros de la superred deseada, incluyendo los anchos de las capas de pozo y barrera, las masas efectivas para electrone y huecos en esas capas, las bandas prohibidas en esas capas y el offset de banda de conducción. El offset de la banda de valencia se actualiza automáticamente y su positividad debería ser comprobada por el usuario de la app. El usuario también puede controlar el tamaño máximo de los elementos de la malla utilizada para los estudios. El botón de cálculo Compute obtiene la deriva en la conducción y el límite de la banda de valencia y la banda prohibida efectiva. Se grafican las funciones de onda de electrón y hueco en la ventana Gráfica.
Nuevo modelo tutorial: Doble barrera 1D
La estructura de doble barrera es interesante por su aplicación en dispositivos semiconductores como los diodos túnel resonantes.
Este ejemplo de verificación muestra la interfaz de la Ecuación de Schrödinger para configurar una estructura de barrera doble 1D GaAs/AlGaAs para analizar los estado casilimitados y su evolución en el tiempo, el fenómeno de túnel resonante y la transmisión como función de la energía. Los resultados del modelo muestran muy buena coincidencia con resultados analíticos, tanto para las energías propias calculadas para los estado casilimitados como para la condición de túnel resonante, como para el cálculo de coeficientes de transmisión.
Nuevo modelo tutorial multifísico: ISFET
Se construye un transistor de efecto de campo sensible a iones (ISFET) reemplazando el contacto de puerta de un MOSFET con un electrolito de interés. La concentración de una especie iónica específica en el electrolito puede ser determinada midiendo el cambio en la tensión de la puerta debida a la interacción entre los iones y el dieléctrico de la puerta.
Este tutorial de un sensor de pH ISFET ilustra el procedimiento para configurar el acoplamiento entre el modelo semiconductor y el modelo electrolítico. También se muestra la técnica para usar una ecuación global simple para extraer los parámetros operativos, sin la necesidad de modelar explícitamente la circuitería de realimentación real.
Nota: Ademása del módulo Semiconductor, se necesita uno de los siguientes módulos para este tutorial: Batteries & Fuel Cells Module, Chemical Reaction Engineering Module, Corrosion Module, Electrochemistry Module, Electrodeposition Module, o Microfluidics Module.
Potencial eléctrico en un ISFET
Nuevo modelo tutorial: MOSCAP 1D
La estructura MOS (oxido silicio metal) es el bloque de construcción fundamental para muchos dispositivos planos de silicio. Sus medidas de capacidad proporcionan un conocimiento profundo de los principios de sus dispositivos. Este tutorial construye un modelo 1D sencillo de una capacidad MOS (MOSCAP) y calcula las curvas C_V tanto a baja como alta frecuencia.
Curvas C-V de baja y alta frecuencia del MOSCAP.
Nuevo modelo tutorial: Célula solar de Si 1D
Este tutorial utiliza un modelo 1D sencillo de una célula solar de silicio para ilustrar los pasos básicos para configurar y realizar la simulación de un semiconductor con el módulo Semiconductor Module. Se utiliza una expresión definida por el usuario para la tasa de foto-generación y el resultado muestra las típicas curvas I-V y P-V de células solares.
El mecanismo de generación de portadora a partir del efecto fotovoltaico no se modela en detalle. En su lugar, por simplicidad, se utiliza una expresión definida por el usuario para la tasa de generación. Además, el modelo Shockley-Read-Hall es uilizado para capturar el efecto de recombinación principal. Bajo condiciones de trabajo normales, las portadoras fotogeneradas son barridas a cada lado de la región de extinción de la unión p-n. Se aplica una pequeña tensión de offset directo para extraer la potencia eléctrica, dada por el producto de la fotocorriente y la tensión aplicada.
Modelo tutorial actualizado: Bipolar transistor thermal
En una actualización del Análisis térmico de un modelo de transistor bipolar, se investigan los efectos de una temperatura no uniforme a lo largo de un dispositivo semiconductor. La interfaz Semiconductor proporciona la fuente de calor utilizada en la interfaz Transferencia de calor en sólidos, mientras que la distribución de temperatura que es utilizada en la interfaz Semiconductor es calculada por la interfaz Transferencia de calor en sólidos. Ahora, la simulación puede correr a temperaturas mucho más altas, lo que resulta en efectos térmicos más visibles.
Las distribuciones de tensión (arriba) y temperatura (abajo) en un transistor bipolar.
5.2a
NOVEDADES
El módulo Semiconductor Module 5.2a trae una nueva app para evaluar los parámetros de diseño de una célula solar de silicio en una fecha y localización específica. Las condiciones de contorno Schottky ideal, Emisión termoiónica y Nivel Quasi-Fermi continuo se han mejorado para aumentar la precisión de los modelos semiconductores, a la vez que se ahorra tiempo computacional y memoria. Más detalles sobre las novedades del módulo a continuación.
Nueva app: Celda solar de Si con óptica de rayos
Mejora de rendimiento para la condición de contorno Schottky ideal en Contactos de metal
En COMSOL Multiphysics® 5.2 y versiones anteriores, se utiliza un esquema de extrapolación constante en los contactos de metal para la condición de contorno de Schottky ideal. Esta requiere una malla mucho más fina en los contornos para producir resultados con una precisión aceptable. En la versión 5.2a se utiliza un esquema de extrapolación de mayor orden para alcanzar una precisión mucho mayor sin la necesidad de una malla extremadamente densa en el contorno. Por ejemplo, la condición de contorno Ideal Schottky se aplica en el contorno izquierdo de un dominio rectangular con una material y densidad de corriente uniformes. Los siguientes gráficos de COMSOL Multiphysics® 5.2a comparan dos mallas y los resultados correspondientes, que son muy precisos y prácticamente indistinguibles uno del otro.
Rendimiento mejorado para la condición de contorno de Emisión termoiónica en heterouniones
En versiones anteriores de COMSOL Multiphysics®, se utilizaba un esquema de extrapolación constante en las heterouniones para la condición de contorno de Emisión termoiónica, similar a la condición de contorno de Schottky ideal. Esta requiere una malla mucho más fina en el contorno para producir resultados con precisión aceptable. En la versión 5.2a se utiliza un esquema de extrapolación de mayor orden para alcanzar mucha mejor precisión sin la necesidad de mallas extremadamente finas en el contorno.
Capacidades mejoradas para la condición de contorno de nivel Quasi-Fermi continuo en heterouniones
Formulacion más precisa para electrostática de dominios de conservación de carga cercana.
Ajustes de estudio optimizados que aceleran los tiempos de cálculo para los modelos tutoriales del transistor bipolar
Los ajustes del estudio para los modelos tutoriales del transistor bipolar se han optimizado para acelerar los tiempos de cálculo. El modelo 3D ahora tarda horas en resolverse, en vez de días, y el modelo 2D se resuelve en minutos en vez de horas.
5.2
Rediseño de la visualización de ecuaciones
5.1
NOVEDADES
Nueva app: LED de longitud de onda sintonizable
Transiciones ópticas indirectas
Material diamante añadido a librería de materiales semiconductores
Ahora se dispone del diamante como un material dentro de la Librería de Materiales Semiconductores.
Variables de postprocesado mejoradas para emisión espontánea
Se han añadido nuevas variables de postprocesado, que permiten que se pueda visualizar el espectro de emisión espontanea en función de la energía del fotón, longitud de onda y frecuencia. Además, ahora es posible acceder directamente a las variables de energía del fotón, longitud de onda, y frecuencia a través de la dimensión extra que es añadida por la funcionalidad de transiciones ópticas, cuando previamente era necesario calcular estas cantidades utilizando una expresión en términos de la frecuencia angular.
5.0
Nuevas herramientas para especificar dopajes
La funcionalidad de Modelar Dopajes de Semiconductor se ha reemplazado por dos nuevas funcionalidades: Modelado de Dopaje Analítico y Modelado de Dopaje Geométrico.
Estudio de inicialización de semiconductor
El estudio de iniciación de semiconductor posibilita refinar una malla 2D en regiones donde la concentración de dopantes varía rápidamente.
Interfaces optoelectrónicas
Dos nuevas interfaces—interfaz Semiconductor Optoelectronics, Beam Envelopes, y la interfaz Semiconductor Optoelectronics, Frequency Domain—permiten el modelado de la mayoría de semiconductores de banda prohibida directa interactuando con campos ópticos. Un nuevo modelo de Fotodiodo PIN GaAs demuestra las nuevas interfaces Optoelectrónicas.
Emisión espontánea
Para modelar materiales de banda prohibida directa, se tiene en cuenta la emisión espontánea en las nuevas interfaces optoelectrónicas.
Absorción de luz y emisión estimulada
En las nuevas interfaces optoelectrónicas, el cambio en la permitividad compleja, o el índice de refracción de un material debido a la absorción de luz puede calcularse y utilizarse para corregir la propagación de ondas electromagnéticas a través del material. Se muestra el uso de las nuevas condiciones de contorno de corrientes de túnel con un modelo de una EEPROM (Electrically Erasable Programmable Read-Only Memory).
Corrientes túnel
Se ha añadido un nuevo modelo de dispositivo EEPROM. Dos condiciones de contorno-Interfaz aislador y Puerta flotante-posibilitan el modelado de corrientes túnel a través de las barreras de aislamiento y la acumulación de carga en las puertas flotantes.
Modelado de trampas
Se pueden modelar trampas de forma detallada mediante las nuevas funcionalidades de recombinación asistida de trampas y distribución de trampas explícita. Un nuevo modelo muestra cómo modelar trampas de superficie en una puerta alrededor del dispositivo MOSFET creado a partir de un nanohilo de silicio.
Modelos de estrechamiento de banda prohibida
El modelo de Material Semiconductor incluye dos nuevos modelos para estrechamiento de banda prohibida: El modelo Slotboom y el modelo Jain-Roulston.